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位 置：新业楼208
联系人：杨女士 13055226967 / 周先生18506931993 /
单次最小预约时长：30 分钟
相邻预约间隔时长：30 分钟的倍数 (按时段)
仪器分类： 电子元器件检测
上次操作人：- / 上次操作时间：2020-07-13 11:21:31
上机计费表： 计费系数：1 抵扣费：0.00 元 优先从周期余额扣费 在预约开始前取消可退预约费
- 00:00:00 - 23:59:59 : 50.00 元/次 60分钟/次(外部)
福建省厦门市湖里区创业路
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预约说明：该仪器暂不提供预约服务
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注意：超过预约结束时间，任何人有权关闭设备，所引起的实验损失后果自负！
下单说明：送样检测下单不会立即扣费，结单时扣费
| 标签 | - | 型号 | LHQ-200 | ||
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| 产地 | 中国 | 采购价 | 129.80 万元 | 采购日期 | 2019/3/11 |
| 生产公司 | 鲁汶仪器 | 性能指标 | 1、主反应腔室：可提供高真空、射频、高温、等离子体环境的腔室，完成镀膜的场所； 2、LHQ-200 系统平台：镀膜系统还包括 RF 射频系统、供气系统、抽气系统、冷却系统，供 气系统由流量计控制其流量，并由真空计测其真空度； 3、RF 射频系统：LHQ-200 的 RF 射频匹配器电源功率 1000W，使用范围 0~1000W。 | 用途 | 用于在基片上生成高质量 SiNx，SiO2和α-Si 等薄膜。 |
| 有效期 | - | 操作说明 | - | ||
| 介绍说明 | 本设备是一种新型的 PECVD（等离子增强化学气相淀积），它是借助射频使含有薄膜组成原子 的气体电离，在局部形成等离子体，而等离子体化学活性很强，很容易发生反应，在基片上沉积出 所期望的薄膜。本设备可以用于在基片上生成高质量 SiNx，SiO2和α-Si 等薄膜。 |
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| 评价人 | 内容 | 评论时间 |
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